差動2元同時スパッタ方を用いたジルコニアやセリア薄膜を作製する研究を行っています。２気室あるスパッタリング装置で、2成分を同時にスパッタリングできる装置です。Si基板と実装膜のバッファー層を作製する研究も行っています。主にXRDによる極点図や逆格子空間マップ等により解析しています。

We are conducting research on the fabrication of thin films of zirconium oxide and cerium oxide on silicon and glass substrates. The thin films are produced in a sputtering system that can produce two different conditions in one device. The thin films are then analyzed in detail by XRD.